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PRESS RELEASE (技術)

2010年2月10日
株式会社富士通研究所

半導体技術の国際会議「ISSCC 2010」で最先端の技術を発表

株式会社富士通研究所(注1)(以下、富士通研究所)は、2010年2月7日~11日に米国サンフランシスコで開催中の半導体技術の国際会議「ISSCC 2010(The International Solid-State Circuits Conference)」において、最先端の技術に関する発表を行いました。今年の会議では、富士通研究所が主たる著者である論文が3本採択されたほか、カナダのトロント大学と共著の論文、も採択されました。いずれも次世代の半導体に関する先進的な技術であり、小型化および低消費電力な電子機器を実現するために必須となるものです。

今後も、富士通研究所では、先端デバイスの研究開発によって、小型で低消費電力な電子機器を実現し、環境負荷の低減に貢献いたします。

国際会議ISSCC 2010について

ISSCCは、半導体技術に関する最大級の会議の1つです。集積回路とシステムLSIに関する会議であり、素子や製造プロセスに関する「IEDM(International Electron Devices Meeting)」と並ぶ大きな会議になります。ISSCCで発表される論文は、いずれも論文審査によって採択されたレベルの高いものです。

今年は、638件の投稿論文の中から210件が採択されました。不景気の影響を受けて投稿論文数が減った昨年よりも、論文の採択率が厳しくなっています。地域別の採択論文数ではアメリカ、欧州が昨年と比べて大幅に増加する一方、日本からの論文は1本減の32本でした。

採択論文の概要

今年の会議では、富士通研究所が主たる著者である論文が3本採択されたほか、カナダのトロント大学と共著の論文も採択されました。富士通研究所が主たる著者である採択論文は、以下の通りです。

商標について

記載されている製品名などの固有名詞は、各社の商標または登録商標です。

以上

注釈

  注1 株式会社富士通研究所:
代表取締役社長 村野和雄、本社 神奈川県川崎市。

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