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[ PRESS RELEASE ] 2002-0071
平成14年3月29日
富士通株式会社
ブロードバンド・インターネットを支える富士通No.123

『あきる野テクノロジセンター』
世界で初めて90ナノメートルLSI試作量産ラインの稼働開始

〜ブロードバンド・インターネットの時代を支えるテクノロジを世界に提供〜


当社は、「あきる野テクノロジセンター」において2001年12月より局所クリーン手法を全面的に採用した新クリーンルームを利用して、世界に先駆けて90ナノメートル(*)最先端LSIの試作量産を開始いたしました。

本センターは、90ナノメートル以降の最先端LSIについて、基礎技術開発、商品企画、設計、生産(試作量産)を一貫して行うことで、製品化スピードを高め、開発力強化を図り、お客様のニーズに対応した「マーケットイン型テクノロジセンター」です。厚木研究所(基礎技術開発)、川崎工場(商品企画、設計)、三重工場(試作量産)の技術者が2001年10月に同センターに集結いたしました。さらに、当社は、2002年度以降の最先端LSI製品出荷に向けて、商品開発強化のためのシナジー効果を高めることを目的に、電子デバイスグループに加え、情報・通信部隊を含め新たな人員を同センターに集結する予定です。

本センターのクリーンルームは、昨今ますます多様化する最先端LSIのニーズに素早く対応するために、ラインの追加や変更を柔軟に行えるように、局所的にクリーン化する新しい手法を用いております。その結果、装置の搬入をしながら他の装置を立ち上げられるため、従来の同規模のクリーンルームでは建設着工から稼働開始まで最短6カ月要するところを4カ月で実現いたしました。また、この手法を取り入れたことにより、クリーンルームの稼働費用を削減できます。

当社が開発した90ナノメートルの最先端LSIは、より一層の高速性、高信頼性、低消費電力性を実現しております。本製品の使用によりブロードバンド・インターネットの時代に、個人や企業の重要なデータを保護しながら、動画像などの大容量データを高速にやりとりできる快適なシステムを実現できます。当社は、今後も、お客様と協力して、e-Japan、医療、教育、コミュニケーションツールをはじめとするさまざまな分野に向けて、高性能サーバ、ネットワーク機器、携帯電話、モバイル機器、デジタルAV機器向けなどのLSIをいち早く提供してまいります。 当社は、「あきる野テクノロジセンター」を核に、日本、米国、欧州、アジアの開発、設計、販売拠点と連携し、今後も世界の半導体ベンダーとして最先端のテクノロジを提供してまいります。


【あきる野テクノロジセンターについて】

所在地 : 東京都あきる野市渕上(フチガミ)50番地
人員数 : 約2300名
稼働時期 :
2000年7月 (商品開発、設計)
2001年12月 (基礎技術開発、試作量産)
敷地面積 : 122,000m2
建屋 :
現在 全4棟
開発棟(中1番館 : 8階建建築面積約3,200m2)
プロセス棟(中2番館 : 5階建建築面積約6,200m2

クリーンルーム面積約4,000m2)
事務技術棟(西1番館 : 3階建建築面積約3,000m2)
動力棟
(4階建建築面積約3,700m2)
2002年12月(完成予定)
事務棟(西2番館 : 3階建建築面積約2,000m2)
生産能力(予定) : 最大5千枚/月(8インチウェハ)
総投資額(予定) : 約900億円(2001年度〜2005年度の5年間で)
生産品目 : 90ナノメートル以降の最先端LSI
主なアプリケーション : ネットワーク機器、情報機器、デジタルAV機器、モバイル機器など

【注釈】
* 90ナノメートル : (0.09マイクロメートル)
ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)におけるプロセステクノロジ世代の定義に基づく値です。

以 上

プレスリリースに記載された製品の価格、仕様、サービス内容、お問い合わせ先などは、発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。あらかじめご了承ください。ご不明な場合は、富士通お客様総合センターにお問い合わせください。

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