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| [ PRESS RELEASE ] |
2002-0071
平成14年3月29日
富士通株式会社 |
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『あきる野テクノロジセンター』
世界で初めて90ナノメートルLSI試作量産ラインの稼働開始
〜ブロードバンド・インターネットの時代を支えるテクノロジを世界に提供〜
当社は、「あきる野テクノロジセンター」において2001年12月より局所クリーン手法を全面的に採用した新クリーンルームを利用して、世界に先駆けて90ナノメートル( *)最先端LSIの試作量産を開始いたしました。
本センターは、90ナノメートル以降の最先端LSIについて、基礎技術開発、商品企画、設計、生産(試作量産)を一貫して行うことで、製品化スピードを高め、開発力強化を図り、お客様のニーズに対応した「マーケットイン型テクノロジセンター」です。厚木研究所(基礎技術開発)、川崎工場(商品企画、設計)、三重工場(試作量産)の技術者が2001年10月に同センターに集結いたしました。さらに、当社は、2002年度以降の最先端LSI製品出荷に向けて、商品開発強化のためのシナジー効果を高めることを目的に、電子デバイスグループに加え、情報・通信部隊を含め新たな人員を同センターに集結する予定です。
本センターのクリーンルームは、昨今ますます多様化する最先端LSIのニーズに素早く対応するために、ラインの追加や変更を柔軟に行えるように、局所的にクリーン化する新しい手法を用いております。その結果、装置の搬入をしながら他の装置を立ち上げられるため、従来の同規模のクリーンルームでは建設着工から稼働開始まで最短6カ月要するところを4カ月で実現いたしました。また、この手法を取り入れたことにより、クリーンルームの稼働費用を削減できます。
当社が開発した90ナノメートルの最先端LSIは、より一層の高速性、高信頼性、低消費電力性を実現しております。本製品の使用によりブロードバンド・インターネットの時代に、個人や企業の重要なデータを保護しながら、動画像などの大容量データを高速にやりとりできる快適なシステムを実現できます。当社は、今後も、お客様と協力して、e-Japan、医療、教育、コミュニケーションツールをはじめとするさまざまな分野に向けて、高性能サーバ、ネットワーク機器、携帯電話、モバイル機器、デジタルAV機器向けなどのLSIをいち早く提供してまいります。
当社は、「あきる野テクノロジセンター」を核に、日本、米国、欧州、アジアの開発、設計、販売拠点と連携し、今後も世界の半導体ベンダーとして最先端のテクノロジを提供してまいります。
- 【あきる野テクノロジセンターについて】
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| ・ | 所在地 | : | 東京都あきる野市渕上(フチガミ)50番地 |
| ・ | 人員数 | : | 約2300名 |
| ・ | 稼働時期 | : |
| 2000年 | 7月 | (商品開発、設計) |
| 2001年 | 12月 | (基礎技術開発、試作量産) |
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| ・ | 敷地面積 | : | 122，000m2 |
| ・ | 建屋 | : |
| 現在 全4棟 |
| ・ | 開発棟 | (中1番館 | : | 8階建 | 建築面積 | 約3,200m2) |
| ・ | プロセス棟 | (中2番館 | : | 5階建 | 建築面積 | 約6,200m2、 |
| クリーンルーム面積 | 約4,000m2) |
| ・ | 事務技術棟 | (西1番館 | : | 3階建 | 建築面積 | 約3,000m2) |
| ・ | 動力棟 |
| (4階建 | 建築面積 | 約3,700m2) |
| 2002年12月(完成予定) |
| ・ | 事務棟 | (西2番館 | : | 3階建 | 建築面積 | 約2,000m2) |
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| ・ | 生産能力(予定) | : | 最大5千枚／月(8インチウェハ) |
| ・ | 総投資額(予定) | : | 約900億円(2001年度〜2005年度の5年間で) |
| ・ | 生産品目 | : | 90ナノメートル以降の最先端LSI |
| ・ | 主なアプリケーション | : | ネットワーク機器、情報機器、デジタルAV機器、モバイル機器など |
- 【注釈】
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- * 90ナノメートル : (0.09マイクロメートル)
- ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)におけるプロセステクノロジ世代の定義に基づく値です。
以 上
プレスリリースに記載された製品の価格、仕様、サービス内容、お問い合わせ先などは、発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。あらかじめご了承ください。ご不明な場合は、富士通お客様総合センターにお問い合わせください。
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