[ PRESS RELEASE ]

1999-0093 平成11年5月11日 富士通株式会社

当社はこのほど、あきる野半導体開発センター(東京都あきる野市)を2000年春に竣工させ、最先端の半導体技術の開発力を強化するために、分散している技術者を同センターに集結することを決定いたしました。

あきる野半導体開発センターは、1995年8月に計画を発表し、97年9月稼働を目標として96年4月に着工いたしました。その後、半導体の研究開発をさらに加速させるために計画を見直し、当初、同センターで予定していた0.13ミクロンプロセス技術の開発を三重工場で行い、同センターの操業開始を2000年春まで延伸することを96年10月に決定し、一旦、工事を中断しておりました。

今回、同センターの工事を再開し、その第一期として既に躯体工事を完了している3棟の内、事務・実験棟に内装を施して、計画通り2000年春に竣工いたします。竣工後、現在、当社川崎工場(川崎市中原区)地区で勤務している半導体の開発・事務部門を対象に1800名程度が順次移転する見込みです。
これは、現在川崎工場およびその周辺に展開している半導体の開発部門を集結させることにより開発力の強化と開発効率の向上を図り、先端分野での競争力を高めることを狙ったものです。

当社では、今後さらに、現在、三重工場(三重県桑名郡多度町)、厚木研究所(神奈川県厚木市)に展開しているプロセス開発部門を、あきる野半導体開発センターへ集結させることを引き続き検討してまいります。

以 上